Oxidation Mechanisms of Hafnium Overlayers Deposited on an Si(111) Substrate
The oxidation mechanism of hafnium overlayers on an Si(111) substrate [Hf-Si(111), including the outermost metallic Hf overlayers and interfacial Hf silicides (HfSi and HfSi4)] was investigated via high-resolution synchrotron radiation X-ray photoelectron spectroscopy (SR-XPS) of Hf 4f5/2,7/2, Si 2p...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1985. - 38(2022), 8 vom: 01. März, Seite 2642-2650
|
|---|
| 1. Verfasser: |
Kakiuchi, Takuhiro
(VerfasserIn) |
|---|
| Weitere Verfasser: |
Matoba, Tomoki,
Koyama, Daisuke,
Yamamoto, Yuki,
Yoshigoe, Akitaka |
|---|
| Format: | Online-Aufsatz
|
|---|
| Sprache: | English |
|---|
| Veröffentlicht: |
2022
|
|---|
| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|
|---|
| Schlagworte: | Journal Article |
|---|