Multiple Linear Regression Modeling of Nanosphere Self-Assembly via Spin Coating
Nanosphere lithography employs single- or multilayer self-assembled nanospheres as a template for bottom-up nanoscale patterning. The ability to produce self-assembled nanospheres with minimal packing defects over large areas is critical to advancing applications of nanosphere lithography. Spin coat...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 37(2021), 42 vom: 26. Okt., Seite 12419-12428
|
|---|
| 1. Verfasser: |
Razaulla, Talha
(VerfasserIn) |
|---|
| Weitere Verfasser: |
Bekeris, Michael,
Feng, Haidong,
Beeman, Michael,
Nze, Ugochukwu,
Warren, Roseanne |
|---|
| Format: | Online-Aufsatz
|
|---|
| Sprache: | English |
|---|
| Veröffentlicht: |
2021
|
|---|
| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|
|---|
| Schlagworte: | Journal Article |
|---|