The Material Efforts for Quantized Hall Devices Based on Topological Insulators

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 32(2020), 27 vom: 09. Juli, Seite e1904593
1. Verfasser: Fei, Fucong (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Zhang, Shuai, Zhang, Minhao, Shah, Syed Adil, Song, Fengqi, Wang, Xuefeng, Wang, Baigeng
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2020
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Review band engineering magnetism quantum Hall effect quantum transport topological insulators