Chemical Growth of 1T-TaS2 Monolayer and Thin Films Robust Charge Density Wave Transitions and High Bolometric Responsivity

Chemical Growth of 1T-TaS2 Monolayer and Thin Films : Robust Charge Density Wave Transitions and High Bolometric Responsivity

© 2018 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 30(2018), 38 vom: 15. Sept., Seite e1800074
1. Verfasser: Wang, Xinsheng (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Liu, Haining, Wu, Juanxia, Lin, Junhao, He, Wen, Wang, Hui, Shi, Xinghua, Suenaga, Kazutomo, Xie, Liming
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2018
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article 2D materials TaS2 bolometers charge density waves chemical vapor deposition
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