Solution Mask Liquid Lithography (SMaLL) for One-Step, Multimaterial 3D Printing

© 2018 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 30(2018), 31 vom: 10. Aug., Seite e1800364
Auteur principal: Dolinski, Neil D (Auteur)
Autres auteurs: Page, Zachariah A, Callaway, E Benjamin, Eisenreich, Fabian, Garcia, Ronnie V, Chavez, Roberto, Bothman, David P, Hecht, Stefan, Zok, Frank W, Hawker, Craig J
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2018
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article 3D printing photochemistry photochromism Hydrogels Photosensitizing Agents Solutions