Highly Mismatched, Dislocation-Free SiGe/Si Heterostructures

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 28(2016), 5 vom: 03. Feb., Seite 884-8
1. Verfasser: Isa, Fabio (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Salvalaglio, Marco, Dasilva, Yadira Arroyo Rojas, Meduňa, Mojmír, Barget, Michael, Jung, Arik, Kreiliger, Thomas, Isella, Giovanni, Erni, Rolf, Pezzoli, Fabio, Bonera, Emiliano, Niedermann, Philippe, Gröning, Pierangelo, Montalenti, Francesco, von Känel, Hans
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2016
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article SiGe heteroepitaxy heterostructures strain relaxation substrate patterning