Extremely Low Contact Resistance on Graphene through n-Type Doping and Edge Contact Design

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 28(2016), 5 vom: 03. Feb., Seite 864-70
1. Verfasser: Park, Hyung-Youl (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Jung, Woo-Shik, Kang, Dong-Ho, Jeon, Jaeho, Yoo, Gwangwe, Park, Yongkook, Lee, Jinhee, Jang, Yun Hee, Lee, Jaeho, Park, Seongjun, Yu, Hyun-Yong, Shin, Byungha, Lee, Sungjoo, Park, Jin-Hong
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2016
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article contact resistance doping edge contact graphene optoelectronic devices