Copyright © 2009 WILEY‐VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 21(2009), 43 vom: 20. Nov., Seite 4334-8
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| 1. Verfasser: |
Hirai, Tomoyasu
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Leolukman, Melvina,
Liu, Chi Chun,
Han, Eungnak,
Kim, Yun Jun,
Ishida, Yoshihito,
Hayakawa, Teruaki,
Kakimoto, Masa-Aki,
Nealey, Paul F,
Gopalan, Padma |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2009
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
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| Schlagworte: | Journal Article
POSS
block copolymer
high etching resistance
hybrid material |
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