Ferroelectricity and antiferroelectricity of doped thin HfO2-based films

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 27(2015), 11 vom: 18. März, Seite 1811-31
1. Verfasser: Park, Min Hyuk (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lee, Young Hwan, Kim, Han Joon, Kim, Yu Jin, Moon, Taehwan, Kim, Keum Do, Müller, Johannes, Kersch, Alfred, Schroeder, Uwe, Mikolajick, Thomas, Hwang, Cheol Seong
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2015
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article antiferroelectricity doped hafnium oxide electrocalroric effects ferroelectricity nonvolatile memory pyroelectricity