High density and large area arrays of silicon oxide pillars with tunable domain size for mask etch applications
Copyright © 2012 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.
Détails bibliographiques
| Publié dans: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 24(2012), 40 vom: 23. Okt., Seite 5505-11
|
|---|
| Auteur principal: |
Gu, Xiaodan
(Auteur) |
|---|
| Autres auteurs: |
Dorsey, Paul,
Russell, Thomas P |
|---|
| Format: | Article en ligne
|
|---|
| Langue: | English |
|---|
| Publié: |
2012
|
|---|
| Accès à la collection: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
|
|---|
| Sujets: | Journal Article
Research Support, Non-U.S. Gov't
Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S.
Dimethylpolysiloxanes
Polymers
Polystyrenes
Polyvinyls
Pyridines
polystyrene-block-poly(4-vinylpyridine)
baysilon
plus...
63148-62-9
Silicon Dioxide
7631-86-9 |
|---|