High density and large area arrays of silicon oxide pillars with tunable domain size for mask etch applications

Copyright © 2012 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 24(2012), 40 vom: 23. Okt., Seite 5505-11
1. Verfasser: Gu, Xiaodan (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Dorsey, Paul, Russell, Thomas P
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2012
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Dimethylpolysiloxanes Polymers Polystyrenes Polyvinyls Pyridines polystyrene-block-poly(4-vinylpyridine) baysilon mehr... 63148-62-9 Silicon Dioxide 7631-86-9