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Intrinsic topological insulator Bi2Te3 thin films on Si and their thickness limit

Intrinsic topological insulator Bi2Te3 thin films on Si and their thickness limit

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 22(2010), 36 vom: 22. Sept., Seite 4002-7
Auteur principal: Li, Yao-Yi (Auteur)
Autres auteurs: Wang, Guang, Zhu, Xie-Gang, Liu, Min-Hao, Ye, Cun, Chen, Xi, Wang, Ya-Yu, He, Ke, Wang, Li-Li, Ma, Xu-Cun, Zhang, Hai-Jun, Dai, Xi, Fang, Zhong, Xie, Xin-Cheng, Liu, Ying, Qi, Xiao-Liang, Jia, Jin-Feng, Zhang, Shou-Cheng, Xue, Qi-Kun
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2010
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. bismuth telluride 1818R19OHO Tellurium NQA0O090ZJ Bismuth U015TT5I8H Silicon Z4152N8IUI
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