Gold nanoparticle patterning of silicon wafers using chemical e-beam lithography

This paper demonstrates a novel facile method for fabrication of patterned arrays of gold nanoparticles on Si/SiO2 by combining electron beam lithography and self-assembly techniques. Our strategy is to use direct-write electron beam patterning to convert nitro functionality in self-assembled monola...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 20(2004), 9 vom: 27. Apr., Seite 3766-8
1. Verfasser:	Mendes, Paula M (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Jacke, Susanne, Critchley, Kevin, Plaza, Jose, Chen, Yu, Nikitin, Kirill, Palmer, Richard E, Preece, Jon A, Evans, Stephen D, Fitzmaurice, Donald
Format:	Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2004
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article