Lithography with a focused soft X-ray beam and a monomolecular resist

Lithography with a focused soft X-ray beam and a monomolecular resist

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 20(2004), 6 vom: 16. März, Seite 2050-3
1. Verfasser: Klauser, Ruth (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Huang, Mao-Lin, Wang, Shih-Chieh, Chen, Chia-Hao, Chuang, Tung Jung, Terfort, Andreas, Zharnikov, Michael
Format: Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2004
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Letter