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Klauser, Ruth
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Chemisorption and reaction characteristics of methyl radicals on Cu(110)
par
Zhai, Run-Sheng
Publié dans:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2004)
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,
Ruth
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2
Lithography with a focused soft X-ray beam and a monomolecular resist
par
Klauser
,
Ruth
Publié dans:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2004)
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3
Modification of aliphatic self-assembled monolayers by free-radical-dominant plasma the role of the plasma composition
par
Weng, Chih-Chiang
Publié dans:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2004)
Autres auteurs:
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...
Klauser
,
Ruth
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