Characterization of pore structure in a nanoporous low-dielectric-constant thin film by neutron porosimetry and X-ray porosimetry

A small-angle neutron scattering (SANS) porosimetry technique is presented for characterization of pore structure in nanoporous thin films. The technique is applied to characterize a spin-on organosilicate low dielectric constant (low-k) material with a random pore structure. Porosimetry experiments...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1991. - 20(2004), 16 vom: 03. Aug., Seite 6658-67
1. Verfasser: Hedden, Ronald C (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lee, Hae-Jeong, Soles, Christopher L, Bauer, Barry J
Format: Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2004
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Journal Article