XeF2 etching of Si(111) : The geometric structure of the reaction layer

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physical review. B, Condensed matter. - 1985. - 47(1993), 23 vom: 15. Juni, Seite 15648-15659
1. Verfasser:	Lo (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Shuh, Chakarian V, Durbin, Varekamp, Yarmoff
Format:	Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	1993
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Physical review. B, Condensed matter
Schlagworte:	Journal Article