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Journal Article 1 directed self-assembly 1 lamellar block copolymers 1 nanoimprint photoresist templates 1 salt complexes solvent vapor annealing 1
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    Directed Self-Assembly of Poly(2-vinylpyridine)-b-polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine) Triblock Copolymer with Sub-15 nm Spacing Line Patterns Using a Nanoimprinted Photoresist Template
    Directed Self-Assembly of Poly(2-vinylpyridine)-b-polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine) Triblock Copolymer with Sub-15 nm Spacing Line Patterns Using a Nanoimprinted Photoresist Temp...
    von Sun, Zhiwei
    Veröffentlicht in: Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.) (2015)

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