Spontaneous H2O2 Accumulation under O2 Driven by Sacrificial Oxidation of NiS2 without External Electrical/Photonic Input

Although spontaneous H2O2 accumulation by sacrificial oxidation of metal disulfides (FeS2, NiS2, etc.) under oxic conditions without external electrical/photonic input has been observed, the mechanistic understanding of HCO3- on the production of H2O2 is still not clear. In this study, HCO3- apparen...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1985. - 41(2025), 40 vom: 14. Okt., Seite 27492-27501
1. Verfasser: Wang, Yu-Le (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Wang, Cong, Wu, Song-Hai, Liu, Yong, Han, Xu
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2025
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Journal Article