Multiple Polarization States in Hf1- xZrxO2 Thin Films by Ferroelectric and Antiferroelectric Coupling

© 2024 Wiley‐VCH GmbH.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 37(2025), 6 vom: 11. Feb., Seite e2411463
1. Verfasser: Zeng, Binjian (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Yin, Lanyan, Liu, Ruiping, Ju, Changfan, Zhang, Qinghua, Yang, Zhibin, Zheng, Shuaizhi, Peng, Qiangxiang, Yang, Qiong, Zhou, Yichun, Liao, Min
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2025
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article 3‐bit/cell operation Hf1−xZrxO2 thin films HfO2 ferroelectrics domain switching ferroelectric materials