Sustainable Lithography Paradigm Enabled by Mechanically Peelable Resists

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - (2024) vom: 26. Nov., Seite e2410978
1. Verfasser: Chen, Lei (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Liang, Huikang, Liu, Peng, Liu, Cuihong, Feng, Bo, Shu, Zhiwen, Chen, Yiqin, Dong, Xiaoqian, Xie, Jianfei, Ji, Ming, Duan, Huigao
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2024
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article chemical‐free conformal manufacturing mechanically peelable resists sustainable lithography transient electronics