Bisphenol A Polyoxyethylene Ether Sodium Sulfate as a New Leveler for Electrodeposition of Copper

The electrochemical behavior of three types of bisphenol A polyoxyethylene ether sodium sulfate (BPA) is investigated through cyclic voltammetry striping tests. The results indicate that BPA-25 exhibited the most significant inhibition of Cu deposition. The nanotwinned Cu (nt-Cu) films are prepared...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1999. - 40(2024), 41 vom: 15. Okt., Seite 21366-21376
1. Verfasser: Cheng, Qing (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Li, Ning, Wu, Bo, Pan, Qinmin, Zheng, Zhen, Han, Xinchen, Ding, Qiao, Zhao, Qi, Xu, Rongguo, Li, Deyu
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2024
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Journal Article