Epitaxial Growth of Large-Scale 2D CrTe2 Films on Amorphous Silicon Wafers With Low Thermal Budget

© 2024 The Authors. Advanced Materials published by Wiley‐VCH GmbH.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 36(2024), 24 vom: 02. Juni, Seite e2311591
Auteur principal: Zhang, Xiaoqian (Auteur)
Autres auteurs: Li, Yue, Lu, Qiangsheng, Xiang, Xueqiang, Sun, Xiaozhen, Tang, Chunli, Mahdi, Muntasir, Conner, Clayton, Cook, Jacob, Xiong, Yuzan, Inman, Jerad, Jin, Wencan, Liu, Chang, Cai, PeiYu, Santos, Elton J G, Phatak, Charudatta, Zhang, Wei, Gao, Nan, Niu, Wei, Bian, Guang, Li, Peng, Yu, Dapeng, Long, Shibing
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2024
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article 2D magnetic thin films Néel‐type domain dynamics amorphous substrates low thermal budget spin–orbit torque