Silicon-Compatible Ferroelectric Tunnel Junctions with a SiO2/Hf0.5Zr0.5O2 Composite Barrier as Low-Voltage and Ultra-High-Speed Memristors

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 36(2024), 15 vom: 01. Apr., Seite e2211305
1. Verfasser: Wang, He (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Guan, Zeyu, Li, Jiachen, Luo, Zhen, Du, Xinzhe, Wang, Zijian, Zhao, Haoyu, Shen, Shengchun, Yin, Yuewei, Li, Xiaoguang
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2024
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article artificial synapse ferroelectric tunnel junction hafnium dioxide memristor ultrafast operation speed