Patterning Complex Line Motifs in Thin Films Using Immersion-Controlled Reaction-Diffusion

© 2023 The Authors. Advanced Materials published by Wiley-VCH GmbH.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 35(2023), 39 vom: 02. Sept., Seite e2305191
Auteur principal: van Campenhout, Christiaan T (Auteur)
Autres auteurs: Schoenmaker, Hinco, van Hecke, Martin, Noorduin, Willem L
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2023
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article Liesegang patterning Moiré patterns hierarchical materials pattern formation reaction-diffusion