Thermal Atomic Layer Etching of MoS2 Using MoF6 and H2O

© 2023 The Authors. Published by American Chemical Society.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society. - 1998. - 35(2023), 3 vom: 14. Feb., Seite 927-936
1. Verfasser: Soares, Jake (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Mane, Anil U, Choudhury, Devika, Letourneau, Steven, Hues, Steven M, Elam, Jeffrey W, Graugnard, Elton
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2023
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society
Schlagworte:Journal Article