Metasurface-Enabled Holographic Lithography for Impact-Absorbing Nanoarchitected Sheets

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Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 35(2023), 13 vom: 17. März, Seite e2209153
Auteur principal: Kagias, Matias (Auteur)
Autres auteurs: Lee, Seola, Friedman, Andrew C, Zheng, Tianzhe, Veysset, David, Faraon, Andrei, Greer, Julia R
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2023
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article holographic lithography nanoarchitectures optical metasurfaces