A magnetically controlled chemical-mechanical polishing (MC-CMP) approach for fabricating channel-cut silicon crystal optics for the High Energy Photon Source

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of synchrotron radiation. - 1994. - 30(2023), Pt 1 vom: 01. Jan., Seite 84-89
1. Verfasser: Hong, Zhen (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Diao, Qianshun, Xu, Wei, Yuan, Qingxi, Yang, Junliang, Li, Zhongliang, Jiang, Yongcheng, Zhang, Changrui, Zhang, Dongni, Liu, Fang, Zhang, Xiaowei, Liu, Peng, Tao, Ye, Sheng, Weifan, Li, Ming, Zhao, Yidong
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2023
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Journal of synchrotron radiation
Schlagworte:Journal Article MC-CMP channel-cut crystal high-accuracy roughness residue-stress free scratch- and speckle-free