Large Magnetic Gap in a Designer Ferromagnet-Topological Insulator-Ferromagnet Heterostructure

© 2022 The Authors. Advanced Materials published by Wiley-VCH GmbH.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 34(2022), 21 vom: 28. Mai, Seite e2107520
Auteur principal: Li, Qile (Auteur)
Autres auteurs: Trang, Chi Xuan, Wu, Weikang, Hwang, Jinwoong, Cortie, David, Medhekar, Nikhil, Mo, Sung-Kwan, Yang, Shengyuan A, Edmonds, Mark T
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2022
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article heterostructure thin films lossless transport magnetic proximity magnetic topological insulators quantum anomalous Hall insulators