Fully Bottom-Up Waste-Free Growth of Ultrathin Silicon Wafer via Self-Releasing Seed Layer

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Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 33(2021), 41 vom: 05. Okt., Seite e2103708
Auteur principal: Hong, Ji-Eun (Auteur)
Autres auteurs: Lee, Yonghwan, Mo, Sung-In, Jeong, Hye-Seong, An, Jeong-Ho, Song, Hee-Eun, Oh, Jihun, Bang, Junhyeok, Oh, Joon-Ho, Kim, Ka-Hyun
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2021
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article epitaxial Si kerfless wafer fabrication self-releasing layer single-batch reactor ultrathin Si