Thermal optimization of a high-heat-load double-multilayer monochromator
Finite-element analysis is used to study the thermal deformation of a multilayer mirror due to the heat load from the undulator beam at a low-emittance synchrotron source, specifically the ESRF-EBS upgrade beamline EBSL-2. The energy bandwidth of the double-multilayer monochromator is larger than th...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Journal of synchrotron radiation. - 1994. - 28(2021), Pt 5 vom: 01. Sept., Seite 1423-1436
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| 1. Verfasser: |
Brumund, Philipp
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Reyes-Herrera, Juan,
Morawe, Christian,
Dufrane, Thomas,
Isern, Helena,
Brochard, Thierry,
Sánchez Del Río, Manuel,
Detlefs, Carsten |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2021
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Journal of synchrotron radiation
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| Schlagworte: | Journal Article
X-ray optics
finite-element analysis
high-heat-load optics
multilayer monochromator |
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