2D-Berry-Curvature-Driven Large Anomalous Hall Effect in Layered Topological Nodal-Line MnAlGe

© 2021 The Authors. Advanced Materials published by Wiley-VCH GmbH.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 33(2021), 21 vom: 15. Mai, Seite e2006301
1. Verfasser: Guin, Satya N (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Xu, Qiunan, Kumar, Nitesh, Kung, Hsiang-Hsi, Dufresne, Sydney, Le, Congcong, Vir, Praveen, Michiardi, Matteo, Pedersen, Tor, Gorovikov, Sergey, Zhdanovich, Sergey, Manna, Kaustuv, Auffermann, Gudrun, Schnelle, Walter, Gooth, Johannes, Shekhar, Chandra, Damascelli, Andrea, Sun, Yan, Felser, Claudia
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2021
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Berry curvature anomalous Hall effect topological nodal-line MnAlGe