Selective Gas-Phase Functionalization of SiO2 and SiNx Surfaces with Hydrocarbons
Selective functionalization of dielectric surfaces is required for area-selective atomic layer deposition and etching. We have identified precursors for the selective gas-phase functionalization of plasma-deposited SiO2 and SiNx surfaces with hydrocarbons. The corresponding reaction mechanism of the...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 37(2021), 13 vom: 06. Apr., Seite 3960-3969
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| 1. Verfasser: |
Gasvoda, Ryan J
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Xu, Wanxing,
Zhang, Zhonghao,
Wang, Scott,
Hudson, Eric A,
Agarwal, Sumit |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2021
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article |
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