Surface-Halogenation-Induced Atomic-Site Activation and Local Charge Separation for Superb CO2 Photoreduction

© 2019 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 31(2019), 25 vom: 26. Juni, Seite e1900546
1. Verfasser: Hao, Lin (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Kang, Lei, Huang, Hongwei, Ye, Liqun, Han, Keli, Yang, Songqiu, Yu, Hongjian, Batmunkh, Munkhbayar, Zhang, Yihe, Ma, Tianyi
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2019
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article CO2 reduction charge separation photocatalysis surface halogenation