Chemical Vapor Deposition Grown Wafer-Scale 2D Tantalum Diselenide with Robust Charge-Density-Wave Order

© 2018 WILEY‐VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 30(2018), 44 vom: 27. Nov., Seite e1804616
1. Verfasser: Shi, Jianping (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Chen, Xuexian, Zhao, Liyun, Gong, Yue, Hong, Min, Huan, Yahuan, Zhang, Zhepeng, Yang, Pengfei, Li, Yong, Zhang, Qinghua, Zhang, Qing, Gu, Lin, Chen, Huanjun, Wang, Jian, Deng, Shaozhi, Xu, Ningsheng, Zhang, Yanfeng
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2018
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article charge‐density‐wave chemical vapor deposition supercapacitors tantalum diselenide wafer‐scale