Scanning Nanowelding Lithography for Rewritable One-Step Patterning of Sub-50 nm High-Aspect-Ratio Metal Nanostructures

© 2018 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 30(2018), 35 vom: 12. Aug., Seite e1801772
1. Verfasser: Liu, Guoqiang (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Chen, Lina, Liu, Jin, Qiu, Meng, Xie, Zhuang, Chang, Jian, Zhang, Yaokang, Li, Peng, Lei, Dang Yuan, Zheng, Zijian
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2018
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article high aspect ratio metal nanofabrication rewritable scanning probe lithography