Metal-Halide Perovskites for Gate Dielectrics in Field-Effect Transistors and Photodetectors Enabled by PMMA Lift-Off Process

© 2018 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 30(2018), 23 vom: 01. Juni, Seite e1707412
1. Verfasser: Daus, Alwin (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Roldán-Carmona, Cristina, Domanski, Konrad, Knobelspies, Stefan, Cantarella, Giuseppe, Vogt, Christian, Grätzel, Michael, Nazeeruddin, Mohammad Khaja, Tröster, Gerhard
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2018
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article gate dielectrics metal-halide perovskites micropatterning techniques photodetectors thin-film transistors