Supercritical Fluid Atomic Layer Deposition : Base-Catalyzed Deposition of SiO2

An in situ FTIR thin film technique was used to study the sequential atomic layer deposition (ALD) reactions of SiCl4, tetraethyl orthosilicate (TEOS) precursors, and water on nonporous silica powder using supercritical CO2 (sc-CO2) as the solvent. The IR work on nonporous powders was used to identi...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 32(2016), 28 vom: 19. Juli, Seite 7170-9
1. Verfasser:	Kalan, Roghi E (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	McCool, Benjamin A, Tripp, Carl P
Format:	Online-Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2016
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't