Hierarchical Manipulation of Block Copolymer Patterns on 3D Topographic Substrates : Beyond Graphoepitaxy
© 2016 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.
Détails bibliographiques
| Publié dans: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 28(2016), 32 vom: 14. Aug., Seite 6900-5
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| Auteur principal: |
Park, Sungjune
(Auteur) |
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| Autres auteurs: |
Cheng, Xiao,
Böker, Alexander,
Tsarkova, Larisa |
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| Format: | Article en ligne
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| Langue: | English |
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| Publié: |
2016
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| Accès à la collection: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
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| Sujets: | Journal Article
block copolymer lithography
buckled structures
hierarchical surface patterns
topographic substrates |
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