Continuous-Gradient Plasmonic Nanostructures Fabricated by Evaporation on a Partially Exposed Rotating Substrate

© 2016 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 28(2016), 23 vom: 09. Juni, Seite 4658-64
1. Verfasser: Ogier, Robin (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Shao, Lei, Svedendahl, Mikael, Käll, Mikael
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2016
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article continuous parameter tuning electron-beam evaporation gradient metasurfaces hole-mask colloidal lithography plasmonic nanostructures