Strategies for Inorganic Incorporation using Neat Block Copolymer Thin Films for Etch Mask Function and Nanotechnological Application

Strategies for Inorganic Incorporation using Neat Block Copolymer Thin Films for Etch Mask Function and Nanotechnological Application

© 2016 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 28(2016), 27 vom: 28. Juli, Seite 5586-618
1. Verfasser: Cummins, Cian (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Ghoshal, Tandra, Holmes, Justin D, Morris, Michael A
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2016
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article block copolymers etch contrast inorganic nanomaterials nanolithography thin films
Online verfügbar Volltext