A technology center for the production of high-precision reflection gratings has been established. Within this project a new optics beamline and a versatile reflectometer for at-wavelength characterization of UV- and XUV-reflection gratings and other (nano-) optical elements has been set up at BESSY...
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Journal of synchrotron radiation. - 1994. - 23(2016), 1 vom: 25. Jan., Seite 67-77
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| 1. Verfasser: |
Schäfers, F
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Bischoff, P,
Eggenstein, F,
Erko, A,
Gaupp, A,
Künstner, S,
Mast, M,
Schmidt, J-S,
Senf, F,
Siewert, F,
Sokolov, A,
Zeschke, Th |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2016
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Journal of synchrotron radiation
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| Schlagworte: | Journal Article
Research Support, Non-U.S. Gov't
XUV optical elements
at-wavelength metrology
c-PGM beamline
diffraction gratings
polarimetry
reflectivity
reflectometer |
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