In Situ Nanolithography with Sub-10 nm Resolution Realized by Thermally Assisted Spin-Casting of a Self-Assembling Polymer

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 27(2015), 33 vom: 02. Sept., Seite 4814-22
Auteur principal: Lee, Jung Hye (Auteur)
Autres auteurs: Kim, YongJoo, Cho, Joong-Yeon, Yang, Se Ryeun, Kim, Jong Min, Yim, Soonmin, Lee, Heon, Jung, Yeon Sik
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2015
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article block copolymers directed self-assembly sub-10 nm warm spin-casting