In Situ Nanolithography with Sub-10 nm Resolution Realized by Thermally Assisted Spin-Casting of a Self-Assembling Polymer

In Situ Nanolithography with Sub-10 nm Resolution Realized by Thermally Assisted Spin-Casting of a Self-Assembling Polymer

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 27(2015), 33 vom: 02. Sept., Seite 4814-22
1. Verfasser: Lee, Jung Hye (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Kim, YongJoo, Cho, Joong-Yeon, Yang, Se Ryeun, Kim, Jong Min, Yim, Soonmin, Lee, Heon, Jung, Yeon Sik
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2015
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article block copolymers directed self-assembly sub-10 nm warm spin-casting
Online verfügbar Volltext