Transfer of Direct and Moiré Patterns by Reactive Ion Etching Through Ex Situ Fabricated Nanoporous Polymer Masks
We present a conceptually simple approach to nanolithographic patterning utilizing ex situ fabricated nanoporous masks from block copolymers. The fabricated block copolymer (BC) masks show predictable morphology based on the correlation between BC composition and bulk properties, independent of subs...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1999. - 31(2015), 22 vom: 09. Juni, Seite 6245-52
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| 1. Verfasser: |
Shvets, Violetta
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Hentschel, Thomas,
Schulte, Lars,
Tschammer, Lisa K,
Cagliani, Alberto,
Bøggild, Peter,
Almdal, Kristoffer,
Ndoni, Sokol |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2015
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article |
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