In Situ Observations during Chemical Vapor Deposition of Hexagonal Boron Nitride on Polycrystalline Copper

Using a combination of complementary in situ X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction, we study the fundamental mechanisms underlying the chemical vapor deposition (CVD) of hexagonal boron nitride (h-BN) on polycrystalline Cu. The nucleation and growth of h-BN layers is found to occur...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society. - 1998. - 26(2014), 22 vom: 25. Nov., Seite 6380-6392
1. Verfasser:	Kidambi, Piran R (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Blume, Raoul, Kling, Jens, Wagner, Jakob B, Baehtz, Carsten, Weatherup, Robert S, Schloegl, Robert, Bayer, Bernhard C, Hofmann, Stephan
Format:	Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2014
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society
Schlagworte:	Journal Article