Perovskite thin films via atomic layer deposition

Perovskite thin films via atomic layer deposition

© 2014 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 27(2015), 1 vom: 07. Jan., Seite 53-8
1. Verfasser: Sutherland, Brandon R (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Hoogland, Sjoerd, Adachi, Michael M, Kanjanaboos, Pongsakorn, Wong, Chris T O, McDowell, Jeffrey J, Xu, Jixian, Voznyy, Oleksandr, Ning, Zhijun, Houtepen, Arjan J, Sargent, Edward H
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2015
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article atomic layer deposition optical gain perovskites transient absorption
LEADER 01000naa a22002652 4500
001 NLM243182643
003 DE-627
005 20231224132002.0
007 cr uuu---uuuuu
008 231224s2015 xx |||||o 00| ||eng c
024 7 |a 10.1002/adma.201403965  |2 doi 
028 5 2 |a pubmed24n0810.xml 
035 |a (DE-627)NLM243182643 
035 |a (NLM)25359103 
040 |a DE-627  |b ger  |c DE-627  |e rakwb 
041 |a eng 
100 1 |a Sutherland, Brandon R  |e verfasserin  |4 aut 
245 1 0 |a Perovskite thin films via atomic layer deposition 
264 1 |c 2015 
336 |a Text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a ƒaComputermedien  |b c  |2 rdamedia 
338 |a ƒa Online-Ressource  |b cr  |2 rdacarrier 
500 |a Date Completed 21.05.2015 
500 |a Date Revised 01.10.2020 
500 |a published: Print-Electronic 
500 |a Citation Status PubMed-not-MEDLINE 
520 |a © 2014 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim. 
520 |a A new method to deposit perovskite thin films that benefit from the thickness control and conformality of atomic layer deposition (ALD) is detailed. A seed layer of ALD PbS is place-exchanged with PbI2 and subsequently CH3 NH3 PbI3 perovskite. These films show promising optical properties, with gain coefficients of 3200 ± 830 cm(-1) 
650 4 |a Journal Article 
650 4 |a atomic layer deposition 
650 4 |a optical gain 
650 4 |a perovskites 
650 4 |a transient absorption 
700 1 |a Hoogland, Sjoerd  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a Adachi, Michael M  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a Kanjanaboos, Pongsakorn  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a Wong, Chris T O  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a McDowell, Jeffrey J  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a Xu, Jixian  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a Voznyy, Oleksandr  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a Ning, Zhijun  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a Houtepen, Arjan J  |e verfasserin  |4 aut 
700 1 |a Sargent, Edward H  |e verfasserin  |4 aut 
773 0 8 |i Enthalten in  |t Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)  |d 1998  |g 27(2015), 1 vom: 07. Jan., Seite 53-8  |w (DE-627)NLM098206397  |x 1521-4095  |7 nnns 
773 1 8 |g volume:27  |g year:2015  |g number:1  |g day:07  |g month:01  |g pages:53-8 
856 4 0 |u http://dx.doi.org/10.1002/adma.201403965  |3 Volltext 
912 |a GBV_USEFLAG_A 
912 |a SYSFLAG_A 
912 |a GBV_NLM 
912 |a GBV_ILN_350 
951 |a AR 
952 |d 27  |j 2015  |e 1  |b 07  |c 01  |h 53-8