Adsorption of a carboxylic acid-functionalized aminoxyl radical onto SiO₂

Silicon wafers both without and with silicon(IV) oxide surface coverage were covered with benzene solutions of stable organic radical 3-(N-tert-butyl-N-aminoxyl)benzoic acid (mNBA). X-ray photoelectron spectroscopy supported the presence of the radical on both surface-cleaned (oxide-reduced) and oxi...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 30(2014), 14 vom: 15. Apr., Seite 4026-32
1. Verfasser:	Murata, Hidenori (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Baskett, Martha, Nishide, Hiroyuki, Lahti, Paul M
Format:	Online-Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2014
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article