Electrochemical deposition of subnanometer Ni films on TiN

In this paper, we show the electrochemical deposition of a subnanometer film of nickel (Ni) on top of titanium nitride (TiN). We exploit the concept of cluster growth inhibition to enhance the nucleation of new nuclei on the TiN substrate. By deliberately using an unbuffered electrolyte solution, th...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 30(2014), 8 vom: 04. März, Seite 2047-53
1. Verfasser: Vanpaemel, Johannes (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Sugiura, Masahito, Cuypers, Daniel, van der Veen, Marleen H, De Gendt, Stefan, Vereecken, Philippe M
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2014
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Journal Article