Hydrogen plasma treatment of silicon dioxide for improved silane deposition
We describe a method for plasma cleaning silicon surfaces in a commercial tool that removes adventitious organic contamination and enhances silane deposition. As shown by wetting, ellipsometry, and XPS, hydrogen, oxygen, and argon plasmas effectively clean Si/SiO2 surfaces. However, only hydrogen pl...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 29(2013), 11 vom: 19. März, Seite 3604-9
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| 1. Verfasser: |
Gupta, Vipul
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Madaan, Nitesh,
Jensen, David S,
Kunzler, Shawn C,
Linford, Matthew R |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2013
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article |
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